第一三八四章 光刻机的现状(上)(1/2)
euvllc联盟的研发费用出资比例中,牵头的美国能源部出30%,intel和gca各出20%,otorola、ib、it、ad和hp各出4%,icron和cyer等其他33家科技企业和研究机构共出10%,今后享受的权利同出资比例相同。
gca需要出资的20%中,以前的euv研究成果折算15%。
gca这些年为了研发euv投资了1.5亿美元,取得了不少有关euv的研究成果,但离成功还有很远的距离,以gca一家之力很难完成,汤普森院长不得不放弃,出面邀请美国能源部和intel等光刻机和半导体产业的同行,美国能源部牵头成立了euvllc。
美国能源部的三家国家实验室、intel和cyer等公司这些年也在研发euv,但远远落后在gca的后面,汤普森院士众望所归,成了euvllc联盟的cto。
作为gca的法人兼董事长,孙健乐见其成。
光刻机公司迟迟不能攻克193n波长的世界级难题,65n制程工艺光刻机迟迟见不到身影,gca和nikon着急,但最着急的是财大气粗的intel和ad,没有下一代光刻机,intel和ad研发的下一代cpu只能成为研发成果,不能变成产品,不能上市,消费者将失去购买欲望,公司的销售和利润锐减,投资者用脚投票,股价下跌,市值减少,研发费用减少,研发受阻,会发生一系列连锁反应。
前世,由于迟迟不能攻克193n波长的世界级难题,光刻机制程工艺一直停留在90n,摩尔定律失效!直到2007年左右,asl生产的世界第一台193n波长的浸没式光刻机问世,一举突破了90n制程工艺,65n、45n、32n、28n、20n、14n、10n……制程工艺越来越细,制造难度越来越大。
重生前,euv光刻机已经诞生,台积电已经宣布能生产7n制程工艺的芯片,全球光刻机公司就剩下asl、nikon、canon和沪海微电子(see)等四家。
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各位董事都知道,业界对下一代光刻机的发展提出了两条技术路线,据我所知,157n光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战,不是短时间能克服的;即使euvllc联盟在5年内研发成功euv,但euv光刻机量产还有很长的路要走,业界悲观预测,5年内看不到65n制程工艺光刻机问世,芯片的升级换代将会陷入停滞,受到美国经济下滑和65n制程工艺技术研发受阻的双重影响,半导体产业的快速发展也不可能继续延续。
孙健一脸严肃,不是信口雌黄,也不是指点江山,准确预测光刻机产业和半导体产业未来的发展趋势,避免gca陷入被动,继续树立gca一把手的权威形象。
打算关门的gca能成为全球第一大光刻机公司,孙董事长的贡献第一,这是现场众董事的心声。
光刻机产业和半导体产业一荣俱荣,一损俱损。
要论对光刻机产业的现状和未来发展趋势的认识,作为全球第一大光刻机公司gca和第五大光刻机公司bsec的控股股东,还是全球第三大光刻机公司asl的第二大股东,孙健拿到的第一手资料不是一般光刻机专家能比拟的,结合二世的知识积累,他称第二,没人敢称第一。
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